华为拥有光刻机吗？

1. 华为拥有光刻机吗？

华为拥有光刻机吗？虽然提到光刻机必然需要提到ASML这家荷兰公司，但光刻机并不是ASML自己完全独立研发出来的。虽然ASML是唯一一家能够提供EUV光刻机的设备商，但这并不全是ASML自己的功劳。一台光刻机其内部零件数量多达10万个、4万个螺栓、3000根电线、2公里短软管等等，整台机器重量高达180吨。其中光源技术是美国的、光学设备是日本的、轴承是瑞典的、阀件是法国的、机械工艺和蔡司镜头是德国的。

因此实际上光刻机是集中了全球力量和智慧的产物，想要超越并不只是单单超越ASML一家公司，而是一整条完整的产业链。

我们有光刻机，但不够好


上海微电子国产光刻机

目前我们最先进的光刻机是来自上海微电子的193nm ArF准分子激光的干式和浸没式DUV光刻机，已经验证了可行性但是量产时间一拖再拖，预计下线时间已经从2021年延长至2022年。虽然同样使用了ArF（深紫外光源），但其整体技术指标距离ASML的第四代DUV光刻机还有不小差距，整体实力只相当于ASML 第三代光刻机TWINSCAN AT:1150i的水平，我们落后的差距大约是二十年。

02专项所带来的技术突破


02专项发布会

很长一段时间们确实没有重视光刻机的发展，例如上海微电子十年期间研发费用只有6亿，平均到一年之中仅仅6000万，实际上经费十分有限。但国家也已经意识到了光刻机发展的重要性，并推出了《极大规模集成电路制造技术及成套工艺》项目（02专项），在参与的部门中，清华大学和北京华卓精科负责双工件台系统并且已经取得突破，让我们成为全球第二个掌握该项技术的国家（仅次于ASML的Twinscan技术）；浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室和浙江启尔机电负责沉浸式光刻机的浸液系统，这让我们成为全球第三个掌握该项技术的国家（仅次于ASML、Nikon）；其余还有中科院光电研究院负责的准分子激光光源（仅次于美国Cymer和日本Gigaphoton）、中科院长春光机所负责的物镜系统（德国卡尔蔡司是领导者）、中科院上海光机所负责的照明系统（德国卡尔蔡司是领导者）、负责先进制程的中芯国际……

可以看到我们正在把光刻机的10万个零件拆分成一个一个微小的部分，然后交由大量的机构来协作完成，从而打造出一条完整的产业链，以一己之力打造光刻机并非天方夜谭。但在所有子系统取得突破之后，我们还需要一个领头羊企业来像ASML一样将所有器件组合在一起，那么谁能完成这个任务？


时代选择了华为

时代选择了华为

是小米？是联想？是中兴？只能是华为！凭借高达1418亿的研发投入和国内最高的芯片自产化水平，这项任务有且只有华为能够完成，而在华为的统合之下，长达半个多世纪的半导体难题也有望迎来破解。机会曾经公平地摆在所有企业面前，但是只有华为有能力抓住这个机会走向卓越。

ASML在EUV光刻机上的累计研发投入不过60亿欧元（折合470亿人民币），这相对于我们每年高达2万亿的半导体市场来说实在是如沧海一粟般渺小。很长一段时间以来我们并不是不能向这个方向投入，只是我们有更多的事情需要去做。随着工业化的逐步完成，各种家电数码产品走入了千家万户，在人民生活水平和基础设施已经完善的前提，下一步必然会向高科技领域进军，而芯片和光刻机无疑是一个很好的方向。

在这一场新的科技浪潮里，必然还会有更多如华为一样的公司崛起，它们将携手并进为中华民族的科技复兴贡献力量，而我们则有幸将成为这场盛宴的见证者。

2. 华为为什么不买光刻机

华为不买光刻机是因为量子芯片则可以通过量子之间的碰撞从而实现新的突破，不再需要光刻机也能完成，
如今华为在“堆叠芯片技术”上已经取得了一些成绩，华为可以利用1+1＞2的方式来生产出拥有市场竞争力的产品，而中芯国际也已经通过3D堆叠技术实现了高性能芯片的生产。另外，华为还一直在不断研发量子芯片，可以不用光刻机“造芯”，在量子芯片领域，一直都不被外媒所看好，但华为很早就已经进入了量子芯片领域研发；
毕竟现在的半导体芯片的发展都是需要遵守摩尔定律的，当发展到1nm极限以后，就无法再向下突破了，而量子芯片则可以通过量子之间的碰撞从而实现新的突破

光刻机是干什么用的：
光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机，同时用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板。

3. 华为有没有可能在研制自己的光刻机？

华为有没有可能在研制自己的光刻机？国产何时能有一流的光刻机

4. 华为有没有可能在研制自己的光刻机？

如果要研制，当然有可能了，但是如果华为将精力用于研制光刻机，那么势必拖累其他环节的研发生产。再者光刻机并不是一朝一夕可以产出的，光刻机是重资金重技术的行业，没有几十年的功力，要追赶上ASML（阿斯麦）是有一定困难的。
国内并非没有光刻机的生产企业，比较有名的就是上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）。这家公司成立于2002年3月，是在国家科技部和上海市政府共同推动下，由国内多家企业集团和投资公司共同投资组建的高科技技术公司，是生产芯片光刻机的国内唯一企业，也是国家重点扶持科技项目。目前主要致力于大规模工业生产的中高端投影光刻机研发、生产、销售与服务。




这家企业最大的股东为上海电子（集团）总公司，第二大股东上海科技创业投资有限公司，均为国有企业，可以说国家是在背后出力的。
成立十六年了，SMEE把光刻机从设想变成了图纸、把图纸变成了产品、把产品变成了光刻技术的突破，但是目前SMEE能够生产的光刻机还落后于老牌的ASML一代。光刻机从出现到现在一共历经了五代，现在荷兰的ASML已经可以生产出第五代最先进的7nm的光刻机（量产），而上海微电子最先进的只研发出了第四代的90nm，且尚无法量产。所以华为现在要做这个的话难度不是一般的大。
荷兰的ASML（阿斯麦）最近几年的研发投入在不断增长，2018年的研发投入已经超过的16亿欧元，虽然跟华为的113亿欧元比起来有差距，但是ASML（阿斯麦）只研发光刻机，华为则是通信及手机等各方面的投入。再者ASML背后既站着三星、台积电这些顶尖的芯片制造企业（7nm的光刻机就是台积电配合下研发出来的），也站着德国银行、美国摩根等等众多的财团，因此它可以吸收实用美国的光源技术、德国的镜头技术、瑞典的轴承技术等等来强化自己，这些是上海微电子和华为所无法比拟的。

综上所述，目前华为不可能在研发自己的光刻机，如果华为有心进入光刻机领域，还不如直接入股上海微电子，这样起步更快。华为也是一家正常的企业，不是神，不可能什么都面面俱到的。

5. 华为有没有可能在研制自己的光刻机？

芯片生产所需要的设备
生产芯片就无法离开光刻机，具备7nm工艺生产能力的光刻机仅ASML公司能够生产。
1.ASML公司每年仅能够生产30台光刻机，其中18台被台积电预定，属于有钱难买的设备；
2.中芯国际花费1.2亿元购买了一台，ASML厂房大火，将会影响到货时间。国内能够生产光刻机的为中国科学院光电技术研究，可生产22nm工艺芯片，通过技术手段可以实现10nm的芯片生产。

华为要研制有可能吗？
如果要研制，当然有可能了，但是如果华为将精力用于研制光刻机，那么势必拖累其他环节的研发生产。再者光刻机并不是一朝一夕可以产出的，光刻机是重资金重技术的行业，没有几十年的功力，要追赶上ASML（阿斯麦）是有一定困难的。
国内并非没有光刻机的生产企业，比较有名的就是上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）。这家公司成立于2002年3月，是在国家科技部和上海市政府共同推动下，由国内多家企业集团和投资公司共同投资组建的高科技技术公司，是生产芯片光刻机的国内唯一企业，也是国家重点扶持科技项目。目前主要致力于大规模工业生产的中高端投影光刻机研发、生产、销售与服务。
这家企业最大的股东为上海电子（集团）总公司，第二大股东上海科技创业投资有限公司，均为国有企业，可以说国家是在背后出力的。
成立十六年了，SMEE把光刻机从设想变成了图纸、把图纸变成了产品、把产品变成了光刻技术的突破，但是目前SMEE能够生产的光刻机还落后于老牌的ASML一代。光刻机从出现到现在一共历经了五代，现在荷兰的ASML已经可以生产出第五代最先进的7nm的光刻机（量产），而上海微电子最先进的只研发出了第四代的90nm，且尚无法量产。所以华为现在要做这个的话难度不是一般的大。

6. 华为有没有能力研究光刻机？

 华为有没有能力研究光刻机？ 我们没有华为是万万不能的，但华为也不是万能的！目前华为是没有这个能力。 不过按照光刻机的原理，只要华为大手笔投入从全球广泛挖来光刻机研究人才投入到光刻机的研发中去，是可以研发出来的。    
       
   光刻机可以说是需要最顶尖精密的仪器之一，技术含量高而且零部件也高，涉及到系统集成、材料、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等等各种先进的技术。但光刻机的原理并不是不能攻克的，就如目前国内的上海微电子设备集团就已经有自己的光刻机，虽然是低端光刻机原理是差不多的。
       
    不过可惜的是，只是研发出来没啥用，没有相关高精细零部件的配套，也是空话一句。也就是制造不出来，不能达到制造高端芯片的要求。如果只是研发出低端光刻机也没啥用，国内市场已经具备而重复了，我们要的是高端光刻机。 
   
     
   光刻机的市场需求量小，基本上被荷兰ASML、日本尼康、国内上海SMEE公司所垄断。上海SMEE公司具备研发和生产光刻机的能力，但不能研发高端光刻机而且更没有办法引进高端高精细零部件而没有办法制造高端光刻机。为什么？
     
   目前我们要制造高端光刻机所需周边产业链不能满足要求，需要高精尖的光源、高精度轴承、反射镜片等等，这些部件ASML也得要从欧美日等公司采购，资金和技术也要依赖于他的大客户如三星、英特尔、台积电等。但这些高精尖的零部件，欧美日又是对我们禁运获取不到了，我们只有从自己的产业链上进行培养，但这个培养时间可不是短期的，甚至有可能培养不起来。
     
   如果高端光刻机一直从ASML处获取不到，今后如果连加工高端芯片也被限制，那也就不得不从自己研发高端光刻机的方向走。可行的办法可能是有实力的相关企业联合起来，不但攻克高端光刻机本身研发技术，同时攻克零部件技术，也许整个产业链就起来了。比如华为联合上海SMEE、中科院广电技术研究所、以及关键零部件的研发企业，共同组建联合体进行整体推进，也许我们拥有高端光刻机甚至打垮ASML也不是梦。
     
     如果没有光刻机，就生产不出芯片；如果没有芯片，就制造不出手机！   华为有没有能力研究光刻机？ 凭华为的技术和资金实力，当然有，但是： 
   因此， 即便华为有能力、有资金研究光刻机，但在几年甚至几十年内也无法生产、制造出当前最尖端的光刻机。 ----这就是现实！
     
    光刻机是芯片制造的核心设备之一 ，主要用于“生产制作芯片和芯片封装“。可以说谁拥有先进的光刻机，谁就拥有芯片生产市场的主动权。芯片生产制造是一项高 科技 技术。目前美国的苹果、高通，中国的华为、小米、Oppo、Vivo等，除了三星，都不具备生产制造芯片设备和技术。
   一、目前具备生产制造光刻机的企业有哪些？       
    二、光刻机的生产技术。      
   三、我国企业为什么不买来制造自己的芯片？    因为供货太少，所以ASML每年生产的光刻机都被台积电、三星等直接买断货了。 
    虽然我国有企业能生产芯片，但其生产芯片的技术水平还是较落后，差最先进的好几代。 （别人先进的光刻机也不卖给你）
   华为有没有能力研究光刻机？ 凭华为的技术和资金实力是有 。但研发并生产制造如此高精尖的技术产品， 不是靠钱和技术能搞定的 。还有另一个问题，制造光刻机的很多材料和配件对中国是禁止的。
     
    所以华为、高通、苹果所研发、设计的高端芯片，只能请台积电这类代工企业代工生产制作了！ 
     
   你说呢，欢迎你的指点和讨论！
   很遗憾的告诉你，华为目前无法研究出光刻机。
   光刻机是制造芯片的最核心设备之一。但至今为止，我国在光刻机方面一直没有拿出手的成绩。
   那为什么说华为无法研究出光刻机呢？
   首先来了解下光刻机的原理。光刻机也叫曝光机，光刻简单理解就是用光来制造电路结构。用光刻机来制造芯片的过程，实际上跟洗照片有点类似，我们把设计好的集成电路图通过紫外光源用掩模板刻到硅晶圆上的过程。
   光刻机的制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上掌握这个技术的企业屈指可数，最好的光刻机企业是荷兰的艾斯摩尔ASML。这家公司在光刻机技术上应该说遥遥领先，处于垄断地位。排在ASML后面的是日本企业，尼康和佳能。
   光刻机原理虽然简单，但制造精度可以说是变态的高。比如ASML的7nm芯片工艺，要知道原子的大小在0.1纳米，这个精度我国就无法制造。再比如光刻机超高精度的对准系统，要求近乎完美的精密机械工艺。
   除以以外，光刻机并不是一项单独的技术，一台光刻机有超过80000个复杂零件，集成数百家的专利技术，它需要强大的整合能力，这使得光刻机很难被模仿。国外企业甚至放话：给你图纸，你都造不出来。
   我国的光刻机和芯片能力离世界水平还有很大差距，但是在中兴事件后我们已经认识到制造高端芯片的重要性，国家政策也开始倾向这个领域。最后说一点，自主创新是进步的灵魂，我们一定要研发自己的核心技术。
   
        前两天，有个朋友问我“光刻机是不是刻录CD的机器啊，华为造不出来吗？”。看来很多人不知道光刻机是怎么回事，下文具体说一说。 
     
       什么是光刻机？       简单来说，光刻机是用来制造芯片的，比如手机处理器、电脑CPU、内存、闪存等，可以说半导体离不开光刻机。
       目前， 最先进的EUV光刻机全球仅有荷兰的ASML能生产 ，集成了全球最先进的技术，90%的关键设备均自外来，德国的光学技术设备、美国的计量设备和光源设备、瑞典的轴承，ASML要做的就是精确控制。
       最关键的是，这些精密的设备，对我国是禁运的，客观上反应了我国和西方精密制造领域的差异。
     
       有钱也买不到       既然无法生产最先进的光刻机，那么可以从ASML那里买到吗？很难，原因有两点。
     
        1）独特的合作模式 
       ASML有一个奇特的规定，只有投资了ASML，才能获得优先供货权，英特尔、三星、台积电、海力士等在ASML中有相当的股份，形成了庞大的利益共同体。ASML的光刻机产量本来就不高，还被“抱团”企业抢走了大部分订单。
       因此，我国的中芯国际2018年成功预定的7nm光刻机，至今仍未收到。
     
        2）瓦森纳协定的限制 
       《瓦森纳协定》是一部全球性的法令，我国就在被限制的名单中，严格限制高技术向我国出口高新技术。因此，我国与发达国家在能源、环境、可持续发展等领域 科技 合作比较活跃，但是在航天、航空、信息、生物技术等高技术领域很少合作。
       回到半导体，也正是这个原因，从芯片设计、生产等多个领域，不能获取到国外的最新 科技 。还可能因为一些“莫须有”的原因，被卡脖子。
     
       我国的光刻机技术水平       目前，我国生产光刻机的厂家有上海微电子、中电 科技 等，但是制程工艺相对较低。上海微电子（SMEE）是国内最领先的光刻机研制单位，能够稳定量产90nm的光刻机，距离荷兰ASML的7nm工艺还很远，而且ASML即将量产5nm工艺的光刻机。
     
        总之，我国生产的光刻机与世界先进水平有很大的差距，主要是因为西方技术封锁造成的。同时因为很多原因，也无法买到最先进的EUV光刻机。这也验证了那句话，只有掌握核心技术，才不会被“卡脖子”。   
   
   
   说到光刻机——是中国芯片业制造之痛，可以绝不过分的说，在即将到来的第三次产业转移中，谁能掌握芯片，谁就能掌握未来的财富之源；谁能手握高端芯片制造，谁就能拥有IC产业的话语权。光刻机是芯片制造过程中最重要的一环，占了总成本的1/3，是最当前我们最需要克服的尖端技术，没有之一。光刻机被誉为“工业上的皇冠”，而荷兰ASML的EUV光刻机则被誉为“皇冠上最闪亮的那颗宝石”
    还记得，中芯国际向ASML订购的那台EVU本应该在2019年上半年到货，却一直被美国阻挠，没有拿到荷兰政府的许可令，加之经历了中兴事件之后，深深让国人感受到了中国在半导体芯片领域的薄弱，而此次美国升级对华为的制裁，更是让国人认识到了中国在芯片制造设备领域的薄弱。 
    关于芯片技术，是非常的复杂，每个学科的交叉超出了你我的想象，   所以我觉着华为想要一家研制光刻机，不太现实。  
   下面谈谈光刻机    在80年代，光刻机的技术其实一直掌握在美国人的手中，后来日本尼康凭借不断的投入取得了突破，在2000年左右，特别是尼康市场份额甚至超过了50%，成为了当时当之无愧的带头大哥。当时日本一度把尼康光 科技 形容为民主之光，让日本人看到了新希望。 
   我们再来看看荷兰的ASML从1984年诞生后的20年，经营可以说是非常的困难，生存无望只能四处找投资，最终飞利浦勉强的收了，在飞利浦旁边找了个空地建了一个工厂，这20年基本上就是搞销售捣鼓关系，勉强地活了下来。
   ASML的成功离不开一个贵人林本坚，1942年出生于越南，中国台湾人，祖籍广东潮汕，在2008年当选了美国国家工程学院院士。再加入台积电之前，林每间在IBM从事成像技术的研发长达22年，当时世界无二的顶级的微影专家，在2000年时候，当时林本坚非常的坚定的投入浸润式的光刻技术的研究，但是当时IBM并不买账，不给研发经费，在2000年加入了台积电，并在2002年研发出来193纳米的浸润式的光刻技术，这个技术一经推出受到各方势力的巨大阻力几乎被康佳、佳能、IBM所有的巨头封杀，就在这个时候半死不活的ASML敏锐地看到其中蕴藏的巨大机会，果断与林本坚合作，2004年ASML和台积电共同研发出第一台浸润式微影机。
   优秀的性能让ASML的产品全面碾压尼康。在短短几年时间内尼康全面沦落，在2012年ASML收购顶级光源企业Cymer这个收购意义非常重大，在2015年经过10年的研究，最终EUV弄到了可以量产的状态，到目前为止，EUV完全被ASML垄断。市场占有率100%
   光刻机三大要素，包括激光系统、高精度的镜头，精密仪器制造技术，镜头来自德国，激光系统来自美国，其中8万多个零件来自全球不同的国家，ASML的技术占比甚至不超过10%。ASML的主要精力还是在沟通合作和协调，其中台积电、英特尔、三星等巨头都消耗了巨大的人力来研发EUV的光刻机。
    光刻机按照用途可以分为IC 前道光刻机、封装光刻机、面板光刻机以及 LED/MEMS/功率器件光刻机。而我们经常所说的芯片制造所使用的则是IC前道光刻机。 
   资料显示，光刻工艺是芯片制造过程中占用时间比最大的步骤，约占芯片制造总时长的40%-50%。同时，光刻机也是目前晶圆制造产线中成本最高的半导体设备，约占晶圆生产线设备总成本的27%。目前最先进的 EUV 设备在2018 年单台平均售价高达 1.04 亿欧元。
    国产光刻机与国外技术差距较大，但部分领域已实现突破虽然，中国也有自己的国产光刻机厂商——上海微电子装备股份有限公司（SMEE），但是其在技术上与国外还存在较大差距。    上海微电子成立于2002年，主要从事半导体装备、泛半导体装备以及高端智能装备的设计制造销售，其中光刻设备是公司的主营业务。目前公司光刻机可以应用于集成电路产业链中晶圆制造、封装测试，以及平板显示、高亮度 LED 等领域。目前上海微电子直接持有各类专利及专利申请超过2400项。
   据上海微电子官网介绍，其主要生产 SSX600 和 SSX500 两个系列的光刻机。其中，SSX600 系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足 IC 前道制造 90nm、110nm、280nm 关键层和非关键层的光刻工艺需求，该设备可用于 8吋线或 12 吋线的大规模工业生产。SSB500 系列步进投影光刻机不仅适用于晶圆级封装的重新布线（RDL）以及 Flip Chip 工艺中常用的金凸块、焊料凸块、铜柱等先进封装光刻工艺，还可以通过选配背面对准模块，满足 MEMS 和 2.5D/3D 封装的 TSV 光刻工艺需求。
   △上海微电子600系列光刻机
   在技术上，上海微电子的IC前道光刻机与国际先进水平差距仍较大。上海微电子装备有限公司已量产的光刻机中性能最好的最高可实现 90nm 制程节点，ASML 的 EUV 3400B 制程节点可达到 5nm。这也使得在IC前道光刻机市场，国产化率较低，国内的IC前道光刻机市场主要被ASML、尼康和佳能瓜分。
   不过，在对光刻精度要求较低的封装光刻机、 LED/MEMS/功率器件光刻机、面板光刻机市场，上海微电子则取得了不错的成绩。
   目前上海微电子封装光刻机已实现批量供货，成为长电 科技 、日月光、通富微电等封测龙头的重要供应商，并出口海外市场，在国内市场占有率高达 80%，全球市场占有率达 40%。同时公司 300 系列光刻机可以满足 HB-LED、MEMS 和 Power Devices 等领域单双面光刻工艺需求，占有率达到 20%左右。
   在面板光刻机市场，上海微电子也已经实现首台 4.5 代 TFT 投影光刻机进入用户生产线。不过，目前市场主流都是6 代及 6 代以上的产线。要想打破日本尼康和佳能所垄断的 FPD 光刻机市场格局，仍需要时间。
    近期业内有消息称，上海微电子的28nm光刻机即将于2021年交付。国产光刻机有望迎来突破。 
     千磨万击还坚劲，任尔东南西北风，厚积薄发，这就是我们的精神！最后我问大家一个问题，如果华为手机的性能在明年没有达到你的预期你，还会不会考虑买？  
   
   华为如果有能力研究光刻机的话，也不会找台积电代工生产芯片了。你以为任何企业都能够成为荷兰的ASML吗？ASML的成功在于，它聪明的将三星，英特尔，台积电等等企业“拉到了它的阵营”，甚至可以毫不夸张的话，荷兰的阿麦斯从来都不是一个孤零零的企业，它是全球智慧的结晶！  
    光刻机的复杂程度 
   我们对于光刻机的了解，可能在于它是生产芯片中的重要一环。但是，它到底怎么制造，到底有什么技术难度呢？这里面我们可以了解下。
   一台光刻机中有太多内容了，从测量台、曝光台，到激光器、光束矫正器、能量控制器、光束形状设置、遮光器、掩模版、掩膜台等等多项内容。    
   在这些零部件的组合下，光刻机需要通过将光束透射过画着线路图的掩模，并且将线路图映射到硅片上，在经过过清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等等。
   而为了能够形成对于芯片的光刻，并且不断挑战摩尔定律，ASML需要不断的加强，对于光 科技 技术的提升。也正是因为在技术方面的提升，它需要向德国蔡司提供的镜头，也需要美国公司供应的光源……    
    可以说，ASML光刻机真正的体验了全球化大生产的功绩。而，这些恰恰是华为目前所欠缺的，因为美国的一些阻止，很多企业放弃了和华为的合作，而在这种情况下，华为想做到光刻机，它就必须要自给自足，然而所需要投入的人力财力，远远大于我们的想象。     
    阻止，不会催生新的竞争对手 
   对于荷兰阿麦斯来说，是不愿意去是催生新的竞争对手，为什么将三星海力士英特尔等公司拉入到自己公司中，成为阿麦斯的股东之一？ 除了获得先进的技术支持之外，还有一个最关键的因素是不想让其他的企业成为阿麦斯的竞争对手。 
   其实我们知道像佳能，尼康，这些企业都是目前在光刻机领域有所研究的企业，为什么绝大多数的市场特别是高端市场，还是被阿麦斯给占据呢？我们不能够去忽略阿麦斯的这种集合众家之长的方式。
       
   《瓦森纳协定》其中就有半导体产业这块问题，我们被以美国为首的西方国家，进行技术出口管制，让我们的光刻机发展困难！
     
    华为，不需要光刻机 
   光刻机虽然重要，但是对于华为来说并不是主要的业务。华为主要的业务是运营商业务和消费者业务，这是它的重点，华为没有必要从头开始，进行光刻机的研究，且不说所需要投入巨大的人力财力，关键是已经在技术上落后先进的技术，即使华为想去研究，也需要花费有更长的时间。    
   而对于我国来说，上海微电子目前生产的90nm光刻机，和已经在发售的ASML 7nm EUV光 科技 有着巨大的差距，更不用说，它们已经在研究5nm，3nm工艺……
   之前有消息称，武汉光电国家研究中心的甘宗松团队，成功研发利用二束激光，生产9nm工艺制程的光刻机。当然，这件事到底成分多少，我们只能期待，其实未来中国光 科技 的发展一定要另辟蹊径。  
    我相信我们一定能够解决光刻机的束缚，虽然说华为不可能去生产光刻机，但是有很多默默无闻的企业正在不断前行。 
   
   该问只问华为的能力，而"有没有能力研究"就是在未来能不能研究出来，未来的能力是不是可期待的。
   我的回答是:能。
   理由，一方面是华为现在的 科技 队伍能力强、水平高以及基础和应用都研究，而且兼具专业性、集成性、跨域性，这是已知的，肯定比荷兰的那个ASML公司强得多、高得多、深得多，同样已知ASML公司的能力主要是集成全球最先进技术，德国光学、美国计量和光源、瑞典轴承，当然，现在比中国的光刻机研究公司强；另一方面，光刻机的原理以及基本机理也是已知的，连光刻机的基础、特有、配套、相关的技术及其难点都是什么以及研究现状、发展趋势各是怎样，也已知或可知。
   而 科技 与 科技 ，天然具有底层相同性或相近性，让跨域研究成为了一种长期以来就存在的现实，让复合型 科技 人才队伍屡见不鲜。
   可以肯定的是， 科技 队伍现实的能力和水平越高，跨域能力就越强、复合水平就越高。这已经被 历史 上的很多实例证实了，半路出家也走通了通向未来的路。
   何况，华为向来是以舍得投入巨资广揽全球高层次研究人才著称的，对光刻机人才一定是一样对待，又可与国内的光刻机研究公司合作，而引入人才和合作自然可使 科技 队伍跨域、复合，而且是高起点的，研究一开始便可直奔高水平、速达高水平。
   恰恰，国内正是只缺高端的光刻机，而对于华为很可能被制约而言，研究高端光刻机不仅仅是非常必要的，还是时不我待的，太慢了就太危险了。
   事关自身，华为也必定快马加鞭。
   更何况，华为不差钱，每年投入科研的钱比ASML公司多太多了，也一定比国内光刻机公司的投入多。
   华为这个通讯王者会不会立足于已有的强能力，去研究产业链上的新备胎或新备份呢？
   华为，之前在世界上干翻的昔日老大爱立信、思科以及老二苹果，倒是都属于通信领域的，华为是以后来者的身份中途上路，在国内，手机同样，在小米手机如日中天之际，才认认真真地做起来，后来者成为了手机的新王者，高端手机之王兼中低端手机之王。而称王，主要是依靠 科技 能力强。
   华为现在不能，未来却未必。
   不能什么困难都靠华为，华为现在已经在全球知名。但要清醒，中国还有第二个华为吗？在华为承受这种极端打击之下，步步危机，我们除了买点华为的货根本帮不上忙，目前替他造势吹牛只会增加敌对势力更严重的封锁和打击，没啥益处。所以希望他们顶住，也希望中国 科技 企业后起之秀加大自主研发迅速崛起。只是注意有本事前要低调闷头发展，像之前的华为一样，这样才能承受的住这种极端考验，不然轻轻松就让人卡脖子和被定点清除了。所以还要继续改革开放，继续包容，还得忍，还没到自豪的时候，但是我们自信这一天不会遥远，继续持续艰苦奋斗吧！中华民族的全面复兴已不遥远！
   华为当然有能力研究光刻机
   不知道为什么总是有人问这样的说起来很无知的问题！
   1、华为目前没能力研发光刻机
   目前光刻机最好的技术在ASML，可用于5、7nm的芯片制造，而中国量产的技术在90nm，相差至少是10年吧。
   光刻机的核心技术究竟是什么？从元件来看，核心设备是镜头，而核心技术是分辨率和套刻精度。镜头这东西目前主要是采购，比如从日本索尼、CANNO来采购，但分辨率、套刻精度就要靠装配工艺了。ASML之前说公开图纸，别人也造不出来，就是指装配工艺可不是按图纸就能够造出来的，需要几十年积累，这一方面华为目前没有，中国厂商都没有，所以华为造不出来。
     
     
   2、未来估计也不会去研发光刻机
   前面已经讲过了，华为目前没有能力造光刻机，那么未来有没有能力，这个就不好说了，但我觉得未来华为估计也不会去研发光刻机。
   虽然现在来看，似乎华为什么都做，从原本的通信设备厂商，到手机，电脑，芯片，操作系统、云等等。
   但华为也是有自己的边界的，这些年的业务延伸，更多的还是基于自己的业务慢慢去扩散，以通信技术、AI等为基础。
   很明显，光刻机是半导体制造领域，并不是华为需要去干的事情，所以未来大概率不会去做光刻机。
     
     
   3、华为并不需要什么都去做，也没这个必要
   最后再说说，很多人总是莫名其妙的，其实一旦企业强了，就什么都要干，什么都能干，这是不正确的，就算企业想要多元化，也是有自己的边际，有所为有所不为。
   华为并不需要什么都做，坦白讲，华为也没有这个能力，也没这个必要，所以关于光刻机，就不要强行往华为身上套了。

7. 华为有没有可能在研制自己的光刻机？

华为只是一家正常的企业，不是神，不可能什么都做到自产，三星这么庞大的集团（仅三星集团一家的营收，占韩国GDP的五分之一），都没法做到光刻机的自产，仍然要向荷兰的ASML采购，华为的业务还没有三星那么杂，制造环节都需要外包（三星的芯片制造能力仅次于台积电，华为只是在芯片设计领域有一定的优势），更何况是制造环节的上游光刻机了。

华为要研制有可能吗？
如果要研制，当然有可能了，但是如果华为将精力用于研制光刻机，那么势必拖累其他环节的研发生产。再者光刻机并不是一朝一夕可以产出的，光刻机是重资金重技术的行业，没有几十年的功力，要追赶上ASML（阿斯麦）是有一定困难的。
国内并非没有光刻机的生产企业，比较有名的就是上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）。这家公司成立于2002年3月，是在国家科技部和上海市政府共同推动下，由国内多家企业集团和投资公司共同投资组建的高科技技术公司，是生产芯片光刻机的国内唯一企业，也是国家重点扶持科技项目。目前主要致力于大规模工业生产的中高端投影光刻机研发、生产、销售与服务。

这家企业最大的股东为上海电子（集团）总公司，第二大股东上海科技创业投资有限公司，均为国有企业，可以说国家是在背后出力的。
成立十六年了，SMEE把光刻机从设想变成了图纸、把图纸变成了产品、把产品变成了光刻技术的突破，但是目前SMEE能够生产的光刻机还落后于老牌的ASML一代。光刻机从出现到现在一共历经了五代，现在荷兰的ASML已经可以生产出第五代最先进的7nm的光刻机（量产），而上海微电子最先进的只研发出了第四代的90nm，且尚无法量产。所以华为现在要做这个的话难度不是一般的大。
研发投入
荷兰的ASML（阿斯麦）最近几年的研发投入在不断增长，2018年的研发投入已经超过的16亿欧元，虽然跟华为的113亿欧元比起来有差距，但是ASML（阿斯麦）只研发光刻机，华为则是通信及手机等各方面的投入。再者ASML背后既站着三星、台积电这些顶尖的芯片制造企业（7nm的光刻机就是台积电配合下研发出来的），也站着德国银行、美国摩根等等众多的财团，因此它可以吸收实用美国的光源技术、德国的镜头技术、瑞典的轴承技术等等来强化自己，这些是上海微电子和华为所无法比拟的。

总结
综上所述，华为不可能在研发自己的光刻机，如果华为有心进入光刻机领域，还不如直接入股上海微电子，这样起步更快。华为也是一家正常的企业，不是神，不可能什么都面面俱到的。

8. 华为有没有能力研究光刻机？

华为目前肯定不能研究平版印刷术。主要原因是: 每一条线都像一座山。这是真实的行业，以及在同一行业的分部门。俗话说得好，每隔一行就像一座山。这是真实的行业，以及在同一行业的分部门。平版印刷领域是一个很难突破的尖端领域。你能想象在几十到几百平方毫米的硅片上，不受干扰地雕刻出个人电脑或移动电话的核心会有多么精巧吗？
目前，世界上不到7nm 的高端光刻机制造工艺，只有荷兰 asml 公司完全掌握。为什么这么难？我们先来看看平版印刷机的作用。平版机，顾名思义，是平版机的核心环节之一。简而言之，光刻机的作用就是将复杂的电路平版印刷到硅片上。为了实现这个目标，前后的工艺环节很多而且复杂，这里没有扩展的描述。一般而言，平版机是基于类似于传统摄影胶片的原理，用特殊的光线照射后对硅进行特殊处理，在其表面形成电路图。
随着硅芯片越来越小，电路越来越密集，对这种光的需求也越来越高。在微观世界中，光在传输过程中，通过光学介质会受到各种干扰。为了减少光束在传输过程中的衍射，必须尽可能减少光源的波长。如今，asml 在荷兰的极紫外辐射光源绝对领先，波长为13.5 nm。这个光学系统很难建造。华为的实力是制造运营商通信设备，光学系统显然是一块短板。事实上，更不用说华为，全国没有一家公司能生产这种光源系统。
只有在这个光源的帮助下，才能生产出精度小于7纳米的最先进的光刻机。中国目前的挑战是突破22纳米，差距是可以预测的。突破并非不可能。让我们看看保险协会的发展历程，得到一些启示。到1984年 asml 成立的时候，平版印刷领域已经有两个巨头: 尼康和佳能。当时，asml 的市场份额还不到10% 。转变发生在90年代末。
当时，主要的光刻机制造商都是围绕着光刻机的核心部分ーー光源ーー展开激烈的竞争。关键问题是，如何制造波长更短的光源？此时，台积电研发经理林肯(注: 这是一个亚洲人)提出了一个计划，希望能够开发出波长为157纳米的光源。尼康，当时的平版印刷巨头，不喜欢这个主意有几个原因。
一方面，尼康已经开始研发157nm 波长产品，这需要很多钱。另一方面，这也不一定。尼康放弃了，但保险协会决定冒险一试。幸运的是，取得了巨大的成功，生产了157纳米的光刻机，在设备稳定性和其他综合成本方面明显优于尼康的157纳米产品。
从那时起，已经进入行业的领先地位，并最终超过尼康和佳能成为该领域唯一的行业超级巨头。从保险协会的经验可以看出，机会和才能在关键时刻发挥着巨大的作用。简而言之，有了天赋和机会，一切皆有可能。华为没有能力做到这一点，但它一直非常重视人才，华为可以迅速聚集和培养高级光刻人才领域。有了人才基础和一点机会，华为，或者其他中国公司，科研机构，也许能够取得突破。想想中国原子弹的发展，航空母舰的发展，有很多困难，不是一个一个被打破。