今年,荷兰ASML公司卖出62台光刻机,中国买走多少设备?

2024-05-11 16:21

1. 今年,荷兰ASML公司卖出62台光刻机,中国买走多少设备?

荷兰ASML公司卖出的62台当中,大部分是DUV光刻机,小部分是EUV光刻机。我们中国在今年成为了ASML公司DUV光刻机的最大客户。按购买金额排名第一,在ASML公司62台的销售总额中占比34%,比去年的占比22%高出了12个百分点,比今年排名第二的韩国高出5个百分点,比排名倒数第二和倒数第一的日本、美国竟分别高出了27个、28个百分点,不过呢,我们中国买走的却全都是单台价格比EUV低不少的DUV,就是说,虽然按购买台数也是排名第一,却是在购买DUV光刻机的国家和地区中排名第一。


EUV光刻机全被其他国家和地区的厂商给买走了。包括台积电、三星、英特尔、海力士。我们中国的中芯国际还是没有拿到2018年就下了订单的那台,5年了还是没有从ASML公司那里买走。

我们中国现在不仅需要大量使用DUV光刻机。今年,我们中国买走了比去年还多、比其他国家和地区都多的ASML公司DUV光刻机,当然表明了我们国内芯片制造企业目前普遍达到的水平,并预示着将在中端芯片制造上出现更为热火的局面,产能扩大有了更进一步的保障;

另外,应该又是更多国内芯片制造企业开展7nm技术研发的迹象吧,中芯国际就是依靠DUV光刻机研发出、掌握了这个技术的。重要的是,我们中国还有着使用EUV光刻机的现实需求,中芯国际从2020年起就在“只待”EUV光刻机了,急等着用来研发5、3nm工艺技术;等来了的话,7纳米芯片的良品率当然就能更快达到业界标准了,然而,看来是一时半会儿等不来,其实,还一时半会儿等不来美国公司高端的其它工艺设备和配件、原材料等,形势逼人,必定倒逼我们国内的相关企业加快研制的速度。

今年,荷兰ASML公司卖出62台光刻机,中国买走多少设备?

2. 2022年荷兰ASML公司卖出62台光刻机,中国买走多少设备

生产和创造芯片都不是最难的,困难的是对于制造芯片的光刻机的研发工作,不仅仅是我国,很多国家对于这项技术都还没有掌握,但是也不乏有的国家在这方面十分优异,尤其是荷方的ASML公司,很多个国家都从这里进购,那我国的购买占比达到多少?
据悉今年ASML在第一季度就卖出了62台光刻机,我国就购买了大半部分光刻机,成为了ASML公司的重要客户。我国缺少芯片是一个历史问题,存在了很多年了,要想突然改变现状也是不现实的问题。
虽然我国已经非常努力的在进行研发工作了,但是设计和制造是两个不同的层面,芯片的制作过程也是非常繁琐且漫长的,而光刻机就是在芯片上制作纹路的,有了它,也能够大大的加快制造的步伐。

但是光刻机的制造远比芯片的制造还要困难的多,要想达到自主研发,还需要很长的时间。我国的手机企业华为众所周知,对于芯片事件也是有所耳闻。华为自主研发了芯片,并且开始了大量的生产,让全国各地都非常羡慕,甚至一度销量超过了苹果手机。
这让美方非常的嫉妒,针对华为采取了一定的手段,煽动其他国家降低对我国光刻机的售卖量,如此一来,华为的制作过程中缺少了重要的一环,销量也大受影响。现代生活人们都离不开智能手机,对于手机的需求量也在不断的提高,能够流畅的使用手机,成为了人们的第一诉求。

华为逐渐成为国内的第一大品牌,受到人们的追捧,并且也远销海外,但是因为芯片的问题,华为生产数量不足,所以不得不限量供应,虽然国人也都比较支持国货,但是供不应求始终是一个致命的危害。

其实芯片的应用范围非常的广泛,但是如今国际市场纷争,再加上疫情的影响和冲击,很多国家都处在了一个严重缺芯的阶段,不光是手机,就连新能源汽车也受到了很大的影响,所以很多企业对于芯的订单开始猛增,台积电在这个时期也是大赚了一笔。

3. 为什么光刻机只有荷兰ASML才能生产?

总结下来,主要有以下几点:
1、技术上壁垒高。
ASML总裁Peter Wennink也在媒体上方言:高端的EUV光刻机永远不可能(被中国)模仿。
“因为我们是系统集成商,我们将数百家公司的技术整合在一起,为客户服务。这种机器有80000个零件,其中许多零件非常复杂。以蔡司公司为例,为我们生产镜头,各种反光镜和其他光学部件,世界上没有一家公司能模仿他们。此外,我们的机器完全装有传感器,一旦检测到有异常情况发生,Veldhoven总部就会响起警报。”
2、长周期投入。
光刻机是典型到极致的高风险、高投入的赛道,前期的投入很高收益很慢,有时候身体要贴钱投入。从ASML的研发投入基本达到15%以上,有时候全年负增长也是常态。
据一位在ASML工作的知乎作者@俗不可耐透露:“ASML的EUV光刻机才真正开始盈利”,而ASML在这项技术上投入的时间是27年。试问有多少企业可以做到。
3、更换供应商成本太高。
买到一台机器和用好机器是两码事。ASML极紫外(EUV)光刻机每台售价达到1.2亿美元,重达180吨,零件超过10万个,运输时能装满40个集装箱,安装调试时间超过一年。除此之外,磨合与提高良率都需要时间堆砌,只要没有大的技术变革,厂商们不可能轻易放弃ASML当其他厂商的小白鼠的。
台积电(占据全球晶圆代工的大半壁江山)、三星、英特尔、格罗方德包括国内的中芯国际都是ASML的客户,其中三星、英特尔、格罗方德还是ASML的股东,三大巨头转投其他家的可能不大。


光刻机之所以重要,在于它是实现摩尔定律的基础:
摩尔定律指出集成电路上能被集成的晶体管数目,将会以每18个月翻一番的速度稳定增长。可以把晶圆的整体构造想象成在微观世界构建大楼,如果想让整个建筑有更多的小房间可以容下晶体管,这就要求房屋的整体框架要精细再精细。反映到光刻机上就意味着它投射到晶圆上的尺寸越小。
EUV光刻机代表了大厂在先进制程方面的领先性,目前只有荷兰ASML一家能够提供可供量产用的EUV光刻机。各大Foundry厂和IDM厂在7nm以下的最高端工艺上都会采用EUV光刻机,客户以英特尔、台积电、三星、SK海力士为主。
ASML在2019年出售了26台极紫外线(EUV)光刻设备,大概一半供给了台积电。

为什么光刻机只有荷兰ASML才能生产?

4. 荷兰光刻机巨头asml是怎么崛起的?


5. 假如我们出高价来买荷兰的光刻机技术,荷兰会卖吗?

不管我们出多么高的价格,荷兰都不会卖给我们光刻机的!至于为什么荷兰面对我们开出的诱人价格也无动于衷,下面就简单的分析一下吧。

第一个原因就是世界上能生产光刻机的国家屈指可数,拥有了光刻机能够提高一个国家自身的国际地位和行业的话语权,荷兰为了自身的国际影响肯定是不会卖给我们的。世界上能生产高端光刻机的国家就那么几个,而荷兰生产的ASML光刻机则是全球最先进的。荷兰也是凭借其在光刻机领域领先全球的能力在国际上颇具影响力,如果荷兰把光刻机卖给了我们,那肯定会降低自身的国际影响力,得不偿失。

第二个原因就是荷兰把那么先进的光刻机卖给我们肯定会牵扯到泄密的问题,这也是荷兰以及其他的国家所不愿意见到的。虽然说我们国家的光刻机技术相比较荷兰是比较落后的,但是如果我们得到了荷兰的光刻机,那么其中很多先进的技术可能就会被我们掌握了。我们也可能会因此而在光刻机技术上突飞猛进,制造出比荷兰更先进的光刻机,那样的话对荷兰来说损失可就太大了。

第三个原因就是光刻机的结构复杂,生产和安装调试的周期都比较长,荷兰把光刻机卖给我们之后就会出现一个真空期,不管在国际影响还是经济利益上面都会遭受重大的损失。且不说一台光刻机上面有多少个精密的零件了,就是一台光刻机的组装调试最少也需要几年才能完成,一点小小的误差就会耽误几个月的功夫。如果荷兰把光刻机卖给了我们,那等到荷兰再次拥有光刻机可能已经是两三年之后的事情了。而这两三年的真空期给荷兰造成的损失可就难以估计了。

假如我们出高价来买荷兰的光刻机技术,荷兰会卖吗?

6. 假如我们出高价来买荷兰的光刻机技术,荷兰会卖吗?

很大概率不会。中国别说是买荷兰ASML的光刻机技术,就是他们生产的EUV光刻机我们也很难买到。由于美国的打压,国内最大的集成电路芯片制造企业中芯国际曾于2018年以1.2亿美元向荷兰ASML公司预定一台EUV光刻机,至今不能发货,而且ASML公司还终止了与中芯国际7nm以下先进工艺EUV光刻机的合作计划,对中国实行了严密的技术封锁。拓展资料一、两种工艺常规光刻技术是采用波长为2000~4500埃的紫外光作为图像信息载体,以光致抗蚀剂为中间(图像记录)媒介实现图形的变换、转移和处理,最终把图像信息传递到晶片(主要指硅片)或介质层上的一种工艺。在广义上,它包括光复印和刻蚀工艺两个主要方面。①光复印工艺:经曝光系统将预制在掩模版上的器件或电路图形按所要求的位置,精确传递到预涂在晶片表面或介质层上的光致抗蚀剂薄层上。②刻蚀工艺:利用化学或物理方法,将抗蚀剂薄层未掩蔽的晶片表面或介质层除去,从而在晶片表面或介质层上获得与抗蚀剂薄层图形完全一致的图形。集成电路各功能层是立体重叠的,因而光刻工艺总是多次反复进行。例如,大规模集成电路要经过约10次光刻才能完成各层图形的全部传递。在狭义上,光刻工艺仅指光复印工艺,即从④到⑤或从③到⑤的工艺过程。二、曝光方式常用的曝光方式分类如下:接触式曝光和非接触式曝光的区别,在于曝光时掩模与晶片间相对关系是贴紧还是分开。接触式曝光具有分辨率高、复印面积大、复印精度好、曝光设备简单、操作方便和生产效率高等特点。但容易损伤和沾污掩模版和晶片上的感光胶涂层,影响成品率和掩模版寿命,对准精度的提高也受到较多的限制。一般认为,接触式曝光只适于分立元件和中、小规模集成电路的生产。非接触式曝光主要指投影曝光。在投影曝光系统中,掩膜图形经光学系统成像在感光层上,掩模与晶片上的感光胶层不接触,不会引起损伤和沾污,成品率较高,对准精度也高,能满足高集成度器件和电路生产的要求。但投影曝光设备复杂,技术难度高,因而不适于低档产品的生产。现代应用最广的是 1:1倍的全反射扫描曝光系统和x:1倍的在硅片上直接分步重复曝光系统。