日本断供光刻胶，给了国产替代机会

1. 日本断供光刻胶，给了国产替代机会

这两年要说我国市场最缺什么，那一定就是芯片了。从19年开始，因为我国华为的先进5G技术，导致国外对其进行 科技 封锁。 
     
  前前后后好几次，虽然华为凭借自身的实力都扛了下来，并且还顺势推出了鸿蒙系统打破了安卓系统长期对市场的垄断，但奈何如今还是陷入了芯片危机，面临无“芯”可用的局面。 
  
  但是要说起来，我国也是个光刻机制造国啊！怎么会在这方面被外国卡脖子呢？ 
  
  因为当初我国对于相关方面 科技 的不重视，导致发展落后，而后国内又掀起过造不如买的思想。加上不知道什么时候由谁提出的国际分工的提议，让我们的 科技 更加不受重视。 
  
  不过好在如今外国的刺激，让我们意识到了自己存在的薄弱点，如今国内对 
     
  片制造技术的热度高涨。国内相关领域人才也都投入到了 科技 的研发中。 
  
  我国的芯片制造技术如今正在全力冲刺，且国内的好消息也不断，上海微电子就宣布或在今年年底上线新一代光刻机。 
  
  按照预期，只要在接下来的三年内，国内的厂商对接上生产线，就可以实现成熟工艺的自我供给。 
  
  而就是在这个时候，日本宣布了对我国的光刻胶的断供。 
     
  光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。目前在世界上，日本的工艺最为成熟，此前市场上也基本上都是在用日本的产品。 
  
  如今日本对我国断供，必然会在相关方面造成影响。 
  
  查阅资料发现，日本就这方面可不只是如今针对我们用，在之前与韩国的外交摩擦中，就针对韩国断货过。 
  
  至于如今在我国 科技 发展到重要关头，为什么要对我国这样，就只能自己猜测原因了。 
     
  对于芯片制造来说，光刻胶的重要性无需多言。 
  
  光刻胶质量的好坏，会直接影响光刻机的稳定性还有良品率，从而影响芯片的稳定性和性能。 
  
  虽然我国此前也可以生产光刻胶，但与日本的先进技术相比，还是差太多了。所以市场上还是以日本提供的货为主，可以说日本此前在市场上几乎是成垄断。 
  
  而如今日本断货，可以说是给了国产代替的机会！ 
  
  像此前的韩国，在日本断货后想逼他低头在其他方面让利。但韩国就通过转移供应链的方式，把其国内对进口日本光刻胶的需求从42%降到了不到10%。 
     
  这不就是个很好的样板吗？对于光刻胶的需求，我们本可以凭借自身生产，但此前由于有日本提供的更好的产品，便不从优而用。如今日本学美国来限制我国市场，那自己的产品也可以用起来了。 
  
  如今国内的在相关领域的人才培养计划也层出不穷，各企业都在想办法招募与培养人才。像最近中微半导体与中国科学技术大学一起联合建立的“集成电路英才班”，就可以说是一个对于我国半导体领域发展至关重要的人才培养基地。 
  
  且若是自己产品无法满足 科技 的需求，像韩国一样转移供应链也不是不行。 
     
  一个工业大国，我国的 科技 技术其实并不弱，被此前会被限制住，只是因为在相关方面的 科技 发展上的不重视导致的。而且在先前那个推崇国际分工的时代，也并没有想过会出现这种问题。 
  
  如今被触及伤口才发现，原来自己的技术与国际落后了这么多。 
  
  日本如今在我国 科技 发展的紧要关头对我国断货，其目的是什么就得咱们自己去猜测了。但其实也不需要怎么样去猜，反正是想要从咱们这里获利。 
     
  但他不会想到的是，对于其这种做法，我们也早有准备，毕竟之前已经在相关领域被遭遇过了一次。且现在我们的反制裁措施也不是摆着看的，对于想靠这种手段来影响干预我们的 科技 发展，那就要看看其有没有那个实力了。

2. 芯片突破的关键时刻，国产光刻胶成功破冰，粉碎日企垄断梦

  其中，作为芯片光刻过程的关键耗材，半导体光刻胶供不应求、完全靠抢的现状更是备受热议。 
       众所周知，   光刻胶的质量和性能对于芯片光刻工艺有着重要的影响。这意味着，光刻胶的供应受限，将直接阻碍芯片发展。  
    对于我国而言，   光刻胶领域长期以来国外先进企业的工艺及参与，对外依存度高达90%。   在当下中国国产芯片突破的关键时刻，倘若因为光刻胶被卡脖子影响了整体芯片行业的进步，将对芯片国产化造成致命的打击。 
       好在，从目前中国光刻胶领域传来的种种好消息来看，国产光刻胶已经成功破冰。 
    据7月2日IT之家给出的消息：   南大光电的ArF 光刻胶产品目前已经拿到了小批量订单。  
     早在5月底，南大光电就已经发布公告表示：公司自主研发的ArF 光刻胶产品通过客户认证，具备55nm工艺要求。  
    此次南大光电ArF 光刻胶产品成功拿到订单，   意味着我国将打破用于精密工艺的ArF 光刻胶产品一直以来被外企垄断的局面。  
       今年2月中旬，由于地震等相关因素的影响，日本光刻胶企业信越化学一度停止向中国大陆多家晶圆厂断供光刻胶。 
     当下全球半导体光刻胶市场主要被日本、美国等企业垄断，中国能够批量生产KrF、ArF光刻胶的厂商屈指可数   。以至于当国外光刻胶企业涨价或断供之后，国内晶圆厂势必要面对光刻胶缺货的窘境。 
    随着南大光电等国内光刻胶龙头不断进行光刻胶领域的投资研发成功，并取得突出进展，如今已经粉碎了日本企业的垄断梦。 
       不过，中国要想真正将光刻胶技术垄断在自己手里，还要突破技术与市场两大壁垒。 
    作为一个劳动与技术高度密集的产业，光刻胶领域存在极高的技术壁垒   。目前80%的光刻胶专利都垄断在日本手中，中国想要实现突破仍需继续努力。  
    同时，有日本掌握了先进技术以及配套产业链，其当下几乎垄断了整个光刻胶市场。   对于中国光刻胶企业来说，即便能够研发出新技术，能否得到广泛应用还未可知。  
       由此看来，国产光刻胶想要实现真正意义上的破冰，任重而道远。 

3. 国产高端光刻胶完成认证，日本得不偿失

老美给华为等中企带来的芯片“卡脖子”之痛，让国内市场彻底认识到了掌握核心半导体技术的重要性，尤其是芯片制造这项短板，是最急需强化的领域。 
  
  而最拖国产芯片制造产业后腿的，无疑就是光刻设备了。因为全球能生产中高端光刻机的只有荷兰ASML，但它却因为《瓦森纳协定》而被老美限制对华自由出货。 
     
  不过，令人振奋的是，在中科院与国产设备企业的共同努力下，国产光刻机取得了实质性的进展，不仅突破了EUV三大核心技术，而且上海微电子的国产中端光刻设备也将在年底正式落地。这意味着，我们将很快实现7nm及以上所有工艺制程芯片的国产化。 
  
  但没想到的是，在我们即将赢下与美的 科技 博弈之时，日本却落井下石，日本信越化学公司做出决定，将断供中企的高端光刻胶材料。 
     
  虽然光刻胶在芯片产线上的技术占比不足1%，但却被称为造芯的“燃料”，与光刻机一样，都有着无可替代的作用。日本是全球最大的高端光刻胶生产地，市场占有率超过了90%。 
  
  很显然，光刻胶的突然断供，对正处爬坡阶段的“中国芯”造成了不小的影响，如果快速解决，必然会打乱国产芯片产业的发展规划。 
  
  令人振奋的是，在这关键时刻，国内材料巨头传出了好消息。 
     
  据媒体报道，在8月25日，晶瑞电材在投资者互动平台表示：公司的光刻胶产品已经完成升级，达到了国际中高级水准！ 
  
  作为承接专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目的重点公司，晶瑞在光刻胶领域已摸爬滚打三十年，虽然日本一直封锁尖端光刻胶技术，但晶瑞凭借着不懈的研发努力，依然实现了稳步前行。 
     
  如今，在“中国芯”最需要助力的时刻，晶瑞不负众望地完成了任务。 
  
  晶瑞方面透露，自主研发的g/i线光刻胶已向中芯国际、合肥长鑫等半导体厂商供货，为芯片的国产化提供了巨大的助力。而且，自研的Krf（248nm深紫外）光刻胶完成了中级测试，现已进入了最后的客户测试阶段，量产在即。 
     
  除了晶瑞之外，南大光电自研的高端Arf光刻胶项目在前段时间也已正式落地，而且还打通了国内光刻胶市场。 
  
  综合来看，国产光刻胶市场生态虽然不如日本企业那么成熟，但却做到了全系突破，完全不用再依赖于进口，而且在国内芯片市场的内需刺激下，有机会在短时间内冲击日本光刻胶“霸主”的地位。 
     
  日本断供光刻胶或许是受到了某国的“指点”，妄图以此来遏制我国芯片产业的崛起。 
  
  但如今的结果显然是得不偿失，不仅加速了我国在光刻胶领域的研发进展，让我们一举摆脱了依赖；更重要的是，随着中国光刻胶材料技术的继续强化，物美价廉的中国产品，必然让日本光刻胶失去市场的唯一性，变得无人问津。

4. 打破垄断！国产光刻胶巨头拿下关键订单

芯片制造是基础核心，通过制造完成一系列的芯片产品运用，并且实现各大 科技 创新的突破。可是生产一颗芯片需要涉及到上千家供应商，几千个步骤环节。一台芯片制造设备的背后，需要用上各国顶级的技术。 
  
  外界只知道芯片制造需要用上光刻机设备，殊不知光刻胶也是至关重要的。通过光刻胶对硅膜片进行曝光，保护衬底表面，推动芯片制造的顺利进行。 
     
  而光刻胶最高的品质是ArF，是生产成熟，高端工艺芯片的必备材料。好消息是，国产光刻胶巨头南大光电正处于这一品质水准。 
  
  根据南大光电的互动平台消息显示，南大光电的ArF产品已经拿到了小批量订单。通过自主研发的ArF光刻胶可以覆盖90nm至14nm，甚至7nm制程的高端芯片制造环节也能实现运用。 
     
  所以能够确认，国产光刻胶巨头拿下了关键订单，在14nm、7nm范围内都能实现覆盖。 
  
  南大光电的ArF光刻胶已经通过了客户认证，并进入到生产线，拿到订单的关键阶段。这意味着国产光刻胶正在打破海外垄断，有望实现崛起。 
     
  中国在光刻胶市场在参与者一直是比较低的，国内很多晶圆厂都需要从日本进口光刻胶。尤其是在ArF光刻胶领域，日本信越化学有非常大的话语权。 
  
  当全球面临芯片紧缺危机时，信越化学无法向国内提供足够的光刻胶，因此宣布断供，等产能恢复再进行供应。 
     
  如此一来，对国外半导体制造行业将带来不可避免的影响。虽然是因产能不足而导致断供，但也让我们意识到掌握自主供应能力的重要性。否则对方只要断供，不管什么原因都会面临卡脖子。 
  
  还有日本其余的JSR、富士电子材料等巨头也长期占据光刻胶市场，日本曾向韩国断供光刻胶出口，结果韩国束手无策。只因日本在光刻胶产业达到了垄断地位。 
     
  然而随着南大光电实现自研ArF光刻胶的客户认证，拿到小批量订单，已经在一定程度上打破垄断了。接下来南大光电只需要不断提升产能，占据国内外光刻胶市场的重要地位，提升ArF光刻胶可覆盖范围和实际运用，就有望助力国产光刻胶实现崛起。 
  
  ArF光刻胶可实现成熟工艺至高端工艺制程的运用，目前南大光电实现了55nm成熟制程的良率测试，后续将瞄准14nm，7nm乃至更高端工艺的研发突破。 
     
  光刻胶只是芯片制造的其中一大产业链，核心市场，高端工艺技术一直把控在日本手中。还有其余的光刻机、芯片制程等设备技术需要从国外进口。虽然芯片是国产企业生产的，但设备技术却是国外的。 
  
  然而，国产芯片供应链正在补足，不仅能够由国产企业参与制造芯片，其背后光刻胶，光刻机等材料，设备供应链都能通过中国企业自研的技术来实现满足。 
     
  南大光电的ArF光刻胶已经取得显著成就，上海微电子也在努力攻克28nm，相信要不了几年就能实现国产28nm的交付。 
  
  而且业内判断国产28nm，14nm会在今年，明年底之前量产。实现量产的背后，其实就是一家家国产企业在补足供应链。将来不只是补足供应链，还能实现各大供应链实力的崛起。 
     
  南大光电实现了ArF光刻胶工艺的巨大进步，并成功获得关键订单，实现小批量出售。不只是南大光电，上海微电子也会实现28nm光刻机的交付，中芯国际若获得EUV光刻机，也能参与高端7nm的生产。 
  
  可以看出，国产芯片供应链的一个个短板正在补足，众多技术节点都已经有了突破。期待国产半导体早日崛起，彻底打破国外垄断。 
  
  对此，你有什么看法呢？

5. 日企垄断芯片材料，却意外盘活国产光刻胶，中企拿下第一个订单

  中国半导体产业所面临的形势十分严峻，在核心设备光刻机方面被荷兰阿斯麦垄断，在光刻胶等芯片材料方面则被一众日企垄断。 
    光刻胶是芯片制造过程中必须用到的基础性材料，其重要性不亚于光刻机。但在全球光刻胶领域，日本以及美国等国家的企业长期掌控着核心技术以及半数以上的市场。 
       公开数据表明，   日本ISP、东京应化、信越化学以及住友化学这四家巨头垄断了全球70%以上的市场。  
    尽管近年来中国企业实现了低端光刻胶的进口替代，但在中高端光刻胶上仍然高度依赖进口，尤其是高端光刻胶。 
    不过，日本企业对光刻胶的垄断，却意外盘活国产高端光刻胶，日前已经有中国企业拿下了第一个高端产品订单。 
        集微网6月30日消息，国产光刻胶龙头企业上海新阳发布公告，公司自主研发的KrF厚膜光刻胶产品已经通过客户认证，并取得第一笔订单。  
    要知道，KrF厚膜光刻胶产品的开发和产业化，是上海新阳的第三大核心技术。如今第一笔订单到手，意味着上海新阳已经进入了KrF厚膜光刻胶产品的产业化阶段。 
    同时，这也意味着，国产KrF厚膜光刻胶将实现更高的国产化率。 
       值得一提的是，不仅仅是上海新阳，   晶瑞股份的KrF厚膜光刻胶也已经完成中试，并进入客户测试阶段，测试通过后即可进入量产环节。  
    由此可见，中国企业在高端光刻胶制造方面已经掌握了一定的技术实力。那么，国产光刻胶到底能不能雄起呢？笔者认为可以。 
        首先，全球半导体材料市场正在逐步向中国大陆转移。  
    近年来，国内半导体材料销售额占全球市场的比例已经提升至16.2%，随着市场规模的扩张，中国光刻胶企业的机会也会越来越多。 
    同时，在我国对新冠疫情有效防控、供应链稳定运行的情况下，国内配套产业的建设进度也会进一步加快。 
    在市场需求旺盛的前提下，国产替代的空间很大。 
        其次，国家政府的鼎力支持，是中国光刻胶企业坚实的后盾。  
    为了加快实现国产替代和高端技术突破，我国相关部门制定了一系列的政策，为相关企业提供资金、人才等多方面的支持。 
    在政策利好的情况下，中国光刻胶企业也积极投入研发，为实现国产光刻胶打破海外垄断而努力。 

6. 打破日本技术垄断，中企巨头突破芯片材料，关键性堪比光刻机

芯片生产过程整体上可以分为三个环节，分别是芯片设计、芯片制造和芯片封装。其中芯片制造是最硬核的一个步骤，涉及到各种顶尖的技术，设备和材料等等。
  
 任何一个细节出现纰漏，都有可能影响芯片制造的效果。大家都知道光刻机对芯片生产有很重要的意义，但实际上芯片制造关键之一也包括了光刻胶。
     
 如果说光刻机是制造过程中必不可少的设备，那么光刻机就是保证制造芯片前的关键。光刻胶作为一种有机化合物，在被紫外光曝光后，以液态的形式涂抹在硅片上，从而干燥成胶膜，保护硅片在光刻过程中的作业。
  
 在芯片制造所涉及的材料上，光刻胶是不可或缺的。而光刻胶的应用领域非常广，包括在印刷工业领域。
     
 只是由于集成电路产业规模的增长，加大了对光刻胶材料的应用。只不过光刻胶一直被日本企业垄断。包括东京应化，富士胶片等日本企业都是光刻胶领域的巨头。
  
 因为在光刻胶产业有着极大的话语权，所以不少国家都要选择与日本合作，进购光刻胶。日本长期维持对光刻胶的垄断，但中国企业传来好消息，突破了关键芯片材料，打破垄断。
     
 中国企业这些年在各项半导体集成电路领域一直在发展，其中涉及到芯片材料的光刻胶上也取得了进展。
  
 据科创板日报消息，南大光电控股子公司自主研发的ArF光刻胶产品已经通过了客户认证，这次通过认证以后，意味着ArF光刻胶产品的开发和产业化取得了关键突破。这也是国内首个国产ArF光刻胶。
     
 据了解，ArF光刻胶可以用在90nm-14nm，甚至是7nm芯片制程技术的应用，在高端芯片制造能发挥重要作用。
  
 如今南大光电突破关键芯片材料，打破日本技术垄断，而且关键性堪比光刻机。虽然距离生产高端芯片还有一段路要走，但是每一次实现的技术突破，都是在为将来生产高端工艺芯片打下基础。
     
 芯片设计有华为海思、芯片制造有中芯国际、芯片材料有南大光电，还有光刻机设备制造也有上海微电子。
  
 集合这么多的顶级 科技 力量，相信未来我们能够在更多的关键技术上迎来突破。
  
 芯片制造是一项复杂的过程，从设计到制造，再从制造到封装，一颗小小的芯片能够被生产出来，背后有太多的不容易。
  
 但是这并不代表会放弃，相反还会激励我们不断向前。前有华为突破5nm设计芯片，后有南大光电打破日本技术垄断，带来ArF光刻胶，为中国芯片制造产业做出巨大贡献。
     
 在芯片制造产业的进展已经非常迅速了，比如中芯国际在梁孟松的帮助下，从三年前的28nm到今年量产14nm，最快明年就能尝试生产7nm芯片。将来要是能获得EUV光刻机，更高的5nm，以及3nm都开始进行研究。
  
 为了鼓励芯片制造企业加强技术研发，我国给予最高免税十年的待遇。还要培养半导体人才，这一切都说明，以前落下的功课，我们正在补上。所有取得高分的学霸，都是一点一滴积累起来的。
     
 南大光电在ArF光刻胶上取得突破，完成了客户认证。这仅仅迈出了第一步，还有第二步，第三步。像南大光电这类的企业在我国还有很多，他们都在默默为中国半导体付出。
  
 曾几何时，国产芯片有这么快的进展速度。因为华为让我们认识到自主技术的重要性，只有掌握核心 科技 才能睡上安稳觉。期待国产半导体能取得更大的突破。
  
 对南大光电突破ArF光刻胶你有什么看法呢？

7. 国内的光刻胶到底处于什么水平呢？

8. 中国光刻胶是什么水平？